课题组成员赴韩国参加ICMAP会议

    本课题组宋远红教授等一行六人，于2016年9月26日至2016年9月30日，参加了在韩国庆州举办的第六届微电子与等离子技术国际会议(The International Conference on Microelectronics and Plasma Technology, ICMAP)。ICMAP是由韩国材料研究协会主办的国际学术会议，始于2008年。会议旨在讨论交流等离子体研究的最新进展以及等离子体在农业、食品及微电子产业应用的最新成果。本次会议共有来自11个国家的约250名科研工作者参加，会议主题有下一代半导体及纳米器件的材料和加工，能量转换和存储的材料和加工，等离子体物理的基础研究，等离子体农业、生物及食品，等离子体在显示器方面的应用。在本次会议中，宋远红教授受邀做了关于脉冲调制射频容性耦合SiH₄混合气体放电的大会报告，张钰如老师报告了利用混合模型研究CCP放电中二次电子影响的相关内容，梁英爽和孙晓艳博士生分别做了关于容性耦合N₂/Ar等离子体化学反应机制的流体模拟和电源参数对Ar及Ar/O₂感性耦合等离子体均匀性影响的流体模拟的会议报告。在本次会议中，我们和国外科研工作者就模拟方法、模拟参数、化学反应的选取，线圈及腔室结构的设计等方面进行了充分的交流。通过参加此次会议，使我们开阔了眼界，拓宽了思路，这对今后的科研工作有十分重要的启发意义。